一、設備用途及工藝條件簡述

1.1、設備用途：用于氣氛保護下燒結、真空下反應燒結等

1.2、爐內氣氛：氮氣、氬氣等保護性氣體

1.3、真空度：可抽真空，≤10Pa （配機械泵）

1.4、作業方式：手動取放樣品

1.5、使用環境：環境溫度≤40℃，相對濕度≤85%，設備周圍無導電塵埃和易燃易爆氣體。

二、主要特點：

真空井式坩堝爐，集控制系統與爐膛為一體。其爐膛保溫材料采用整體真空吸附成型，程控鑲嵌進口電阻絲，超大口徑的石英爐腔（石英桶）和真空水冷密封法蘭系統，可以在流動氣氛和真空狀態下快速加熱樣品，能很好的替代真空箱式爐。爐子上部配有泄壓閥，很好保證在通氣氛使用情況下的安全。

三、主要技術參數

該設備可添加我司自主研發的真空平衡系統，實現動態的真空平衡既邊通氣氛邊抽真空使其腔體內部壓力穩定在設定負壓，精度±1Pa。亦可不通氣氛只抽真空實現所需要的真空度。